台積電研究發展資深副總經理米玉傑今天在台積電技術論壇表示，這家全球晶圓代工龍頭2024年將取得半導體微影設備廠「艾司摩爾」（ASML）最先進微影工具的新一代版本。
根據《路透社》報導，米玉傑在矽谷的台積電技術論壇上說，台積電將在2024年引進高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）曝光機，來因應客戶推動創新的需求。
米玉傑並未說明這項設備何時將用於量產。台積電對手英特爾（Intel Corp）已表示，2025年將開始以高數值孔徑EUV進行生產，還說將率先收到這種機器。
英特爾進入晶片代工業，將與台積電競爭客戶。業界正密切關注哪家企業掌握下一代晶片技術的優勢。
台積電業務開發資深副總經理張曉強隨後說明，台積電2024年還不準備運用新的高數值孔徑EUV工具來生產，主要使用目的是跟夥伴進行研究。
參與此次論壇的產業調查機構TechInsights半導體經濟學家赫奇森（G. Dan Hutcheson）說：「台積電2024年擁有這種設備的重要性，在於他們更快速接觸到最先進技術。」
赫奇森指出，EUV技術已成為走在尖端的關鍵，高數值孔徑EUV則是推進半導體技術的下一個重大創新。
本文授權轉載自：中央社
責任編輯：傅珮晴、吳秀樺
