全民創作時代來臨!
全民創作時代來臨!
2013.06.28 | 創業

燈罩上的紋路如髮絲般彎曲纏繞、桌燈以蔓生植物的蜷曲樣貌構成曲線優美的花紋……,傳統工法無法實現這樣的設計,但3D列印讓創作回到思考、藝術的本質,也讓任何人都有能力實現自己的設計理念。

日本和服的迷人之處,在於領口優雅地交疊在胸前、雙袖隨風輕揚擺動的典雅姿態。台灣德芮達設計團隊將此特性融合進燈具設計,燈具表面紋理除了以大迴繞來表示行走間大幅律動的袖擺,更以細微的圓圈傳達出細膩的服飾質感。「傳統方法是做不出來的,只有3D列印才能實現這種精細的設計,」台灣代理3D印表機的德芮達總經理彼得(Peter Chiu)說,雖然主業為3D印表機代理,但它們幾年前看好3D列印對文創產業的改變,便開始培養設計師經營自有品牌。

傳統作法中,產品設計要考慮到模具必須脫模的限制,密集而重複的圓圈堆疊、如鸚鵡螺般一層層的弧形設計,可能會被工廠打回票。但3D列印帶來的「加法製造」,則讓所有創意只要按一個鈕,就能跳出設計圖在眼前成形。

省下開模成本
對文創設計者來說,3D****列印打破了原來卡在理想/現實中間的鴻溝。此外,它也打破了過去動輒百萬的高昂開模成本,對年輕剛創業的設計師來說,大幅降低進入門檻,將有助於更多台灣創意夢想的實現。以台灣工業設計為例,光是大學部畢業學生就近2千人,這些生力軍在過去以代工製造為主的產業環境,不易找到發揮的空間,但未來就有較大的獨立創業空間,為產業注入更多設計力量。

曾獲獎無數的知名台灣設計師、奇想創造執行長謝榮雅分享了一段年輕時的故事:當時他有兩位好朋友,立志攜手創業,走上設計之路,其中一人甚至把房子抵押了。結果他們一年中只開了一次模、量產不到2千個,就燒光500萬。「早年台灣文創規模小,開模這件事是最大的挑戰,但3D列印出現後就能解決這個問題,」謝榮雅說。

3D列印創造出客製化、少量多樣的特性,正符合文創產業價值。謝榮雅指出,以往的工業設計追求量產,但未來經由3D列印,將解放這個觀念,轉向商學價值,「設計可以只為一個人做。」跳脫量產的思維框架,最終設計得以回到藝術本質。

在這樣的思維和技術門檻下,文創將走入「全民設計時代」,只要有美感創意的人,都能將設計作品呈現出來。國外的MGX、Shapeways等網站都是成功範例,它們開放所有設計者在網路平台上投稿,結合社群挑選好的作品生產,並透過網路販售,所得則由設計者和網站拆帳,這是「共贏」模式。

數位創作風行
德芮達科技正計畫跨足類似的數位創作平台,它們八年前就代理多款印表機,五年前跨足3D列印文創設計,做出多款複雜度極高的燈具。近來更和故宮合作,將知名玉龍紋盤、翠玉白菜等藝術品都掃描為3D檔,再加上現代化的設計加值,印出古今融合的新潮藝術品。

現在德芮達打算仿照國外商業模式,建立開放的數位創作平台,讓所有具設計力的人都能投稿,並鼓勵更多外部設計師加入平台,德芮達能幫他們印出來,透過自有網站的電子商務進行販售。

不過究竟誰能在這樣的模式下賺到錢?「一個是大型平台,另一種則是名人、名設計師,」謝榮雅認為,雖然網路讓更多人的作品有管道被看見,但設計是非常注重品牌的產業,因此「名人效應」讓強者越強,「這就像App Store一樣,當上面有100萬個App,還是很難被看見。」

但客製和量產並非衝突,而可並行並存。舉例來說,Nike、蘋果也做某種程度的客製化,例如每個人的App內容、排列都是個人化的,但卻又和量產形成互補的商業模式。「找出利基商業模式,就決定企業在未來能否取得優勢!」謝榮雅說。

**3D列印帶來的文創變革
****改變一:從減法變加法,突破設計極限
****改變二:降低開模風險與成本
****改變三:設計更加數位化、客製化

**資料來源《數位時代No.227》

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突破摩爾定律極限!台灣奈微光用矽光子技術打造「會聞的晶片」,開創感測新藍海
突破摩爾定律極限!台灣奈微光用矽光子技術打造「會聞的晶片」,開創感測新藍海

在後摩爾定律時代,台灣奈微光不僅是開發出一款新晶片,更在於證明了創新不必只沿著摩爾定律持續追求製程極限,採取橫向發展同樣能找到市場著力點,台灣奈微光正運用 CMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor)製程,打造出全球少見、能「嗅聞」世界的感測平台,這場從臺大實驗室技術啟程的冒險,正讓臺灣半導體產業看見另一條通往未來的道路。

跨足大健康與車用,奈微光用矽光子打造感測新藍圖

台灣奈微光所研發的矽光子感測晶片樣品,針對多波段應用所設計的多樣化解決方案。
台灣奈微光所研發的矽光子感測晶片樣品,針對多波段應用所設計的多樣化解決方案。
圖/ 數位時代

正當全球半導體產業競相投入奈米級製程競賽,追求更小、更快的晶片時,台灣奈微光卻選擇了一條截然不同的道路。「我們的核心技術就在於光子 IC 設計。」台灣奈微光董事邱俊榮說明,他們所做的是「光的晶片」,與傳統專注於電子電路的 IC 完全不同。

長久以來,市場上若要製造中長波紅外光的光源,普遍會採用化合物半導體。然而,化合物半導體不僅成本高、良率較低,且在光譜調控上存在不少挑戰,台灣奈微光則突破性地利用 CMOS製程,直接從矽基底打造出中長波紅外光光源,顛覆了以往的作法。

邱俊榮強調,這都要歸功於臺灣半導體 CMOS 製程的高度成熟與優異良率,讓台灣奈微光能在成本上取得絕對競爭力,打破中長波紅外光技術高昂的門檻。「我們是透過 CMOS的半導體製程設備,把晶片延伸到矽光子光源與矽光子感測器。」他指出,「這就是台灣奈微光最核心的差異化。」台灣奈微光的矽光子技術,也催生出最具顛覆性的應用──微量氣體的連續偵測。傳統上,偵測微量氣體多依賴大型設備,或是藉由薄膜與電化學感測器,體積龐大、造價不菲,且難以持續監測,必須等待薄膜變化才能得到數據,台灣奈微光則運用中長波紅外光,透過氣體吸收特定波長時產生的能量變化,實現即時且連續的濃度偵測。

在應用面,台灣奈微光鎖定「大健康」與「汽車」兩大領域:希望未來能將這項技術導入智慧衣等穿戴裝置,持續監控呼吸與體內氣體變化,也可應用於電動車市場,偵測鋰電池異常釋放的氣體,為車輛安全嚴格把關。

挑戰摩爾定律侷限橫向創新,打開感測市場新局

台灣奈微光持續以矽光子技術挑戰摩爾定律的侷限,開創感測市場新局,展現臺灣半導體橫向創新的實力與決心。
台灣奈微光持續以矽光子技術挑戰摩爾定律的侷限,開創感測市場新局,展現臺灣半導體橫向創新的實力與決心。
圖/ 數位時代

這項突破性的感測能力,也展現出台灣奈微光對半導體產業發展脈絡的深刻洞察,傳統的半導體產業長期依循摩爾定律,追求單位面積內電晶體數量的極大化,也就是線寬持續縮小、功能不斷堆疊,屬於典型的「縱深式」發展,然而,隨著製程推進至1奈米世代,單台曝光機設備高達4億美元,資本支出急遽膨脹,物理極限與成本效益成為產業面臨的重大挑戰。

台灣奈微光選擇另闢蹊徑,他們將半導體製程的應用「橫向」擴展。邱俊榮指出,即便在傳統 IC 領域中,微米級製程線寬早已鮮少被提及,但在感測器等應用領域依然蘊藏廣大潛力,台灣奈微光正是運用這些「尚未被徹底開發」的微米級製程,結合自家的矽光子技術,開發出光源與感測器晶片,創造全新的應用價值,這意味著,臺灣半導體產業不只在奈米級製程領域具備領先地位,還能進一步將既有資產延伸至更多元的應用場景,而不必一味追逐最先進的製程節點。

「我們不是照著摩爾定律的方向往下挖掘,而是打開另一種可能,只要做一些物理上的調整,就能產生中長波的光源,還能偵測中長波紅外光,甚至在同一顆晶片上就可同時偵測到紫外光。」邱俊榮強調,這正是對半導體生命週期的延伸。他也提到,台灣奈微光的目標並非爭奪市場,而是藉由技術替換,協助既有產品升級、實現價值加值(value-add)。

不過,若要讓這項劃時代的光感測技術真正落地並普及至廣大市場,仍需面對商業化與規模量產的多重挑戰。為了推動晶片功能從單一走向多元,並提升其多波段的精確調控能力,台灣奈微光申請了經濟部產業發展署所推動的「驅動國內 IC 設計業者先進發展補助計畫」(簡稱晶創IC補助計畫),期望加速技術成熟與市場部署。

AI時代新戰局,台灣奈微光技術應用的無限可能

此計畫的核心目標,是讓單一晶片實現「多波段(multi-band)有效控制的微分辨識」。過去,台灣奈微光所開發的晶片多以單一功能為主,而透過晶創 IC 補助計畫的資源,將協助他們推進晶片功能的多元化。

這項技術的挑戰,在於如何精準控制多個光譜的發射。邱俊榮形容,以前的設計就像一次將所有光譜全部釋放,現在則能做到「要A動、BC不動」或「C動、AB不動」等更細膩的調控,要達成這種「誰要動、誰不動」的精準控制,必須增添新的光罩設計與更複雜的驅動機制,雖然這意味著更高的開發成本,但能顯著簡化後端機構,加速產品量產與推向市場的進程。

台灣奈微光預計在2026年6月前完成這項技術開發進入投片階段。儘管從投片到實際市場落地仍需時間,但他們已開始與紡織、電動車鋰電池、半導體廠房氣體偵測等產業客戶溝通布局,力求縮短市場開發週期。同時,在迎接AI的時代,數據品質與廣度更是關鍵。邱俊榮認為,台灣奈微光的矽光子感測技術,能為AI提供更精確、即時與連續的數據。透過晶片同時測量多種身體參數並實現每秒連續偵測,將提供豐富且精準的「身體密碼」數據,不僅能協助AI進行更深入的演算找出過去未能捕捉的變化規律,更將賦能AI在大健康等領域做出巨大貢獻。

目前,台灣奈微光正積極與半導體廠房氣體偵測廠商、大健康品牌客戶及跨產業夥伴合作。展望未來,台灣奈微光不僅要透過晶創IC補助計畫將晶片功能多元化,更將持續深化技術,證明台灣半導體產業不只在極限製程上領先,更能橫向開拓無限的市場潛力,為全球帶來前所未有的感測應用突破。

|企業小檔案|
● 企業名稱:台灣奈微光
● 董事長:張坤昱
● 核心技術:CMOS製程的先進矽光子光源晶片模組與感測晶片模組
● 資本額:新臺幣4.5億元

|驅動國內IC設計業者先進發展補助計畫簡介|
在行政院「晶片驅動臺灣產業創新方案」政策架構下,經濟部產業發展署透過推動「驅動國內IC設計業者先進發展補助計畫」,以實質政策補助,引導業者往AI、高效能運算、車用或新興應用等高值化領域之「16奈米以下先進製程」或「具國際高度信任之優勢、特殊領域」布局,以避開中國大陸在成熟製程之低價競爭,並提升我國IC設計產業價值與國際競爭力。

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