台灣第四個半導體學院落腳國立清華大學，今（27）日盛大舉辦「國立清華大學半導體研究學院」揭碑儀式。邀請前台積電研發副總經理林本堅擔任院長一職，他在致詞時表示，半導導體學院的目標是培育半導體的領導者，以鞏固台灣世界一流地位。
林本堅表示，在半導體領域的重要領域可分別為元件、製程、材料、設計等四個環節，而半導體學院也就是以此劃分出四部，學生無論選取哪一個專長，都需要同時具備其他三項的能力。
簡單說，半導體學院的學生，必須要有「理工」的基本功，除了自己專精的能力之外，同時還要成為其他三個領域的通才。他強調，半導體產業需要互助合作，只有具備了解不同領域的能力才能知其挑戰，找出共同更好的解方。
他透露，目前半導體學院已經完成第一期招生，共錄取80位碩士生，其中設計部有30人，其餘學生則平均分散在製程、元件和材料部。
除了在理工能力的培養之外，林本堅也非常看重學生產業觀點與表達能力的培育。他表示，未來會聘請幾位商管學院的教授，專門教導學生如何寫出好文章，並且從產業、商業的觀點來看半導體的運作，除了工程相關的專才外，具有簡報能力的才能也是培育重點。
EUV投入受阻，轉身研發浸潤式微影
林本堅曾任職於台積電研發副總經理，是一位研發出浸潤式（Immersion）微影技術的專家，為全球半導體發展劃下一大里程碑。
在揭幕儀式之後，林本堅受訪時也分享一段他任職於台積電時，研發出浸潤式微影技術的起因。他回憶起2002年，當時英特爾發起極紫外光（EUV）微影設備研發聯盟，邀請多家業者組成EUV LCC聯盟支援艾司摩爾（ASML）開發EUV機台設備，參與者包含摩托羅拉、AMD、IBM等廠商，而台積電卻被拒於門外。
也因如此，激發台積電另闢蹊徑，發展出浸潤式微影技術，在先進製程發展得以彎道超車。林本堅透露，EUV機台起初是希望作為100奈米製程機台，而後往前遞減到60、40奈米製程，最終到5奈米才正式採用。但最早投入EUV的英特爾卻尚未量產。
另一方面，當被問及中芯EUV設備受阻，對先進製程發展的影響看法？林本堅則認為，中芯即便無法取得EUV設備，但仍可透過曝光機設備，採多重圖形（Multiple patterning）的方式實現5奈米量產。
不過他也表示，5奈米以下的製程微縮是吃力不討好的工作，需要花費很多資金，但微縮的幅度卻只有一點點，聰明的人會想更好的方法強化半導體技術，微縮製程不一定是唯一的路。
舉例來說，可以將目光放在電腦架構優化（computer architecture optimize），此方式可以大幅提升半導體效能，比起製程微縮更有意義。他更透露，台積電非常關注這塊領域發展，並聘用了一些專門研發該領域的專家。
他強調，半導體應用的範圍越來越廣，所以重點應放在設計出適用於不同應用的技術，以最低成本的達到最高效果，製程微縮不是唯一的路。半導體提升效能的技術五花八門，而這也會是未來半導體學院積極投入研究的重點之一。
責任編輯：錢玉紘
