日本佳能（Canon)推出的奈米壓印微影設備售價，比艾司摩爾（ASML)的微影設備少一位數，不過最終價格仍未確定，根據佳能上月聲明，NIL微影設備可用來生產5奈米晶片，經過改良還可用來生產2奈米晶片。另外，針對美國對中國祭出禁令，佳能新機台是否能輸出中國？對此佳能執行長御手洗富士夫表示，14奈米以下的技術都是被禁止，因此不認為可以販售。
日本佳能一直在投資奈米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）這種新的晶片製造技術，並計劃將新型晶片製造設備的價格定在艾司摩爾（ASML)最好機台的很小一部分，從而在曝光機領域取得進展。
Canon：NIL售價比ASML的EUV少一位數
奈米壓印技術是極紫外光（EUV）技術的低成本替代品。佳能首席執行長御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示，該公司最新的奈米壓印技術將為小型晶片製造商生產先進晶片開闢出一條道路。
「這款產品的價格將比艾司摩爾的EUV少一位數，」現年88歲的御手洗富士夫表示。這是他第三次擔任佳能總裁，上一次退出日常營運是在2016年。禦手洗富士夫還說，最終的定價還沒有敲定。
總部位於荷蘭費爾德霍芬的艾司摩爾是EUV曝光機的唯一供應商。EUV曝光機是世界上最先進的晶片製造機器，每台價值上億美元。這種設備是幾十年大量研究和投資的產物，對於大規模生產速度快、能耗低的先進晶片至關重要。
但只有少數現金充裕的公司有能力購買EUV曝光機。這替佳能最新上市的奈米壓印晶片製造設備帶來希望。
自今年年初以來，佳能股價上漲了27%，其競爭對手Nikon公司也上漲了24%。
Canon研發奈米壓印技術近十年，新工廠2025年投產
佳能與日本印刷綜合企業大日本印刷株式會社（Dai Nippon Printing Co.）以及儲存晶片製造商鎧俠控股（Kioxia Holdings Corp.）合作研究奈米壓印技術已有近十年的時間。與透過反射光工作的極紫外光技術不同，佳能研究奈米壓印技術是將電路圖案直接印在晶圓上，從而製造出據稱幾何形狀與最先進節點相當的晶片，但速度要慢得多。
這種新設備有望讓晶片製造商降低對晶片代工廠的依賴，同時也讓台積電和三星電子等晶片代工廠更有可能批量生產晶片。佳能表示，這種機器所需功率只有EUV同類產品的十分之一。
御手洗富士夫表示：「我不認為奈米壓印技術會取代EUV，但我相信這將創造新的機會和需求。」「我們已經收到了很多客戶的詢問。」
佳能此前一直專注於製造普通晶片，2014年開始大力投資奈米壓印技術，收購了主攻奈米壓印技術的分子壓模公司(Molecular Imprints Inc.)。作為台積電的供應商之一，佳能正在東京北部的宇都宮市建設20年來的第一家曝光設備新工廠，將於2025年投產。
御手洗富士夫擔任佳能總裁已近18年，自2006年以來一直擔任佳能首席執行長。他出生於1935年，1995年首次執掌佳能時，曾因將公司從運營困境中解救出來而廣受讚譽。
佳能最近任命了一批新董事，將於明年加入董事會，其中包括現年65歲的佳能美國首席執行長小川和人、59歲的工業集團總裁武井宏明和61歲的高級執行總裁淺田實，這意味著一批新高層正在崛起。
御手洗富士夫說：「尋找繼任者是我的責任。」他拒絕就卸任時間、潛在候選人以及公司尋找新一任首席執行長的積極程度等細節訊息發表評論。
「我希望這是一個完全的驚喜，」他說。“「我們的員工將首先了解它，然後其他人透過記者會知道這些訊息。」
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責任編輯：蘇祐萱
