即使是半導體設備巨人，也無法在跨步前進時，所向披靡地清除所有路障。巨人辦不到的事，正是台灣零組件供應鏈的關鍵成長機會。
艾司摩爾（ASML）是荷蘭半導體設備大廠，2019年產品銷售額排全球第二高，其中最知名的產品EUV光刻機（極紫外光曝光機，lithography machine）擁有8成市占率，一台機器動輒新台幣30億元，是研發7奈米以下先進製程的必備產品。
今年8月，艾司摩爾宣布在台南成立全球技術培訓中心，台積電晶圓廠營運副總經理王英郎致詞時點出：「有了它（EUV），才能讓相同尺寸的晶片放入更多電晶體，從1億顆成長到100億顆。」
硬體評論網站AnandTech認為，光台積電可能就安裝了全球過半EUV光刻機。再從艾司摩爾年報看，去年銷售額有51％都賣給台灣業者，全年EUV出貨26台，推估台積電約占20台，顯示雙方緊密關係。
「一間公司再怎麼強，也不會什麼都做。」意德士科技董事長闕聖哲形容，艾司摩爾就像賓士原廠，能打造頂級S-Class車款，卻沒有自己生產輪胎。而意德士就像專門生產輪胎的企業，能滿足半導體企業客製需求，讓他們開車速度更快。
跑在原廠ASML前頭，填補「關鍵缺口」
闕聖哲口中的獨門輪胎，指的是半導體曝光製程中常用的「真空吸盤」，原先只是用來固定矽晶圓。
2009年，某晶圓代工大客戶發現光刻機不夠精準、影響良率，當時光刻機供應商Nikon、Canon、艾司摩爾都無法解決問題，便找上意德士想辦法。
意德士以演算法模擬出真空吸盤的最佳「曲度」，提高了晶圓曝光中的良率，雙方也一路自10奈米製程合作到3奈米製程。
闕聖哲指出，隨著每一代半導體製程往前突破，光刻機還是必須將光源準確打在愈來愈小的線徑上，不能因為光線的物理特性有所偏移。而既然「打光」設備有技術天花板，客戶只好將腦筋動到固定晶圓的吸盤底座上。
闕聖哲解釋，像艾司摩爾這樣的設備巨人，在全球賣機台時，著重的是產品標準化、規格化帶來的高毛利，就算是最大客戶，也很難為它們客製化研發小零件。「要專注開發要價30億元的曝光機，還是把精力移到約1,000萬元的真空吸盤上，這並不難選。」
抓到機會、與艾司摩爾共同成為大客戶「唯二」的真空吸盤供應商後，意德士並未因此停下腳步。
最強「副廠」助陣，台灣業者聯手打群架
有別於其他產業，晶圓先進製程的研發特性是，由代工的零組件業者，拿著現有設備去做下一世代開發，遇到各種問題後累積數據，再回頭修改、重新打造關鍵零組件。因此，能滿足客戶需求、共同成長的零組件業者，往往能獲得比較高的毛利。
前提是，零組件業者得願意投入大量研發資源，也要熬得住動輒一、兩年的開發時間。
「如果只做成熟製程的商品，客戶要節省成本時，就只得降價。」為提高獲利，闕聖哲經常告訴同仁：「要伸出手抓住客戶，幫客戶解決問題的同時，即使走的是利基市場道路，同樣有機會成為老大。」
事實上，意德士不只有曝光製程專用的真空吸盤，同時也代理銷售、維修蝕刻、薄膜製程使用的靜電吸盤。以數量來看，後者需求遠大於前者；但如果比較產品毛利率，前者較後者高下立判。
此外，意德士還有另一項營收主力產品「全氟密封材」（FFKM Oring）。這項產品是跟日本大金工業進口全氟材料，再運用自己設計的配方，生產開發耐高腐蝕電漿材料、耐臭氧電漿材料，應用在半導體的蝕刻、擴散、薄膜等製程。
闕聖哲綜合觀察，半導體零組件設備業者共有三種生存之道：一是成為原廠，直接賣設備、提供保固，但這多半只有巨人做得到；二是提供與原廠相同材質與功效的「民間副廠」產品；三則要能端出便宜又好的同級品。
隨著半導體產業一片榮景，他強調，未來5年內，台灣半導體零組件業者的考驗，「不是成為合格供應商，而是能否協助推動本土代工與封測領導業者前進」，讓自己成為「高價值夥伴」。
意德士
成立時間：1999年
董事長暨總經理：闕聖哲
近期財報：2020年第3季營收1.02億元，年增1.62％。
關鍵技術：半導體曝光（黃光／微影）製程真空吸盤。
本文出自數位時代319期12月號《解析台灣半導體奇蹟！》封面故事
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責任編輯：張庭銉
