在現今趨勢，半導體大廠普遍朝向5奈米、3奈米、2奈米等先進製程投資，且第3代半導體材料等研發技術的趨勢也顯而易見。半導體檢測大廠汎銓科技受惠於此，觀察到客戶群對在材料分析的需求持續上揚，表示有助汎銓今年帶動整體營運成長。
從營收來看，汎銓2020年合併營收達11億元以上，稅後盈餘約1.6億元，年增95%，EPS為4.05元。汎銓對此表示，公司在材料分析(MA)、故障分析(FA)的業務上，皆持續保持良好的接單動能。
汎銓服務的客戶群相當廣泛，國內外各大半導體廠、LED廠、IC設計公司及半導體材料設備商等，都是其長期服務的客戶群。汎銓表示，台積電是台灣半導體發展的火車頭，大廠帶動下游材料及設備商，效應十分明顯。
提供半導體製程「雙管齊下」的技術服務
汎銓所提供的分析服務，有材料分析、故障分析等技術服務，材料分析佈局較早，是半導體研發製程業者的重要環節，一般來說，新品設計選定好材料後，在投產前都要分析一次。公司說明，其透過高階電子顯微鏡等分析設備儀器，搭配自行研發特殊分析技術工法，為各產業製程研發及產品提供服務。像是成分、結構、製程缺陷、影像比對、電路異常定位等製程環節，都能提供專業分析報告。
早年以材料分析起家的汎銓，也將該技術視為公司重要發展業務。所謂的材料分析，就是透過物理性與化學性的方式，查看材料的結構狀況以找出影響產品功效的原因，能讓晶片製造商得以設計製造配方，確保製程與設備皆未偏離容許範圍。如此一來，也能夠縮短上市時間，並大幅提升大批量生產的良率。
然而，也因為導體元件設計愈趨精密，在製造過程中更容易因為細微影響而出現問題。多年耕耘材料分析領域的汎銓營運長廖永順表示，這不但讓材料檢測的需求增加，也因為分析難度逐步提升，即便有許大型公司有自己的實驗室，也未必能滿足大量檢測需求，讓委外分析成為趨勢。
汎銓科技副總經理周學良指出，像是在半導體製程中所用到的EUV光阻、Low-K等關鍵材料，在透過電子顯微鏡觀察樣品的微結構與成分時，因受限於材料天性，容易受到電子束的照射導致變形、倒塌，進而造成製程研發人員誤判。
舉例說明，汎銓在材料分析上所開發出的「低溫原子層鍍膜技術(LT-ALD)」，以真空鍍膜在樣品外層形成保護，就像為樣品穿上「盔甲」，可以避免因電子束照射產生變形，進而提升材料分析的精準度，也能找出影響產品效能的變因。在LT-ALD技術加持下，材料分析成為汎銓營收主要來源，並已取得過半市佔率。
汎銓另一重要技術業務：故障分析屬於製程後段環節，可以找出IC運作失效的原因，提升製程良率，也是半導體製程中相當重要的一環。雖然汎銓在故障分析上較晚佈局，但公司也預估，有了先前在材料分析上的技術累積，加上高階的檢測設備逐步到位，包括材料分析、故障分析、到表面分析等的一站式高品質分析服務，都將是今年公司主要成長動能。
汎銓：展望半導體成長趨勢，分析服務需求上揚
面對全球半導體市場需求強勁，近期晶圓代工龍頭台積電也宣布計畫，未來3年內將投入1000億美元，擴產晶圓產能與技術發展。汎銓表示，因觀察到這樣的趨勢，對於先進製程研發更可拓展相關供應鏈有利的成長空間。
展望2021年，汎銓表示對整體營運成長深具信心，也將持續投入新技術應用設備、培養專業技術人才等。憑藉多年累積之專業分析競爭力，搶攻半導體市場龐大的商機，讓公司未來營運更上層樓。
責任編輯：王郁倫
