鴻海插旗青島高階封測設備!力拚年底量產、年產能上看36萬片
鴻海插旗青島高階封測設備!力拚年底量產、年產能上看36萬片

鴻海進軍半導體領域又有新進展了!根據青島西海岸新區國際招商消息顯示,鴻海轉投資的新核芯高階半導體封測廠已進入裝機階段,目前搬入機台設備46台,包含中國製的28nm曝光機,預計10月試產、年底量產。

鴻海近期將觸角擴展到諸多領域,除了電動車外,半導體領域的投入更是不在話下,特別是封測端的布局。鴻海總共有兩個封測企業(訊芯、鴻海集團的S事業群),今年6月鴻海透過子公司購買馬來西亞科技公司 DNeX約5.03%股權,DNeX手中握有大馬晶圓廠SilTerra約6成股權,也意味著間接投資大馬8吋晶圓廠。整體來看,鴻海集團透過直接和間接方式,共營運2座8吋晶圓廠及2座封裝測試廠。

鴻海轉投資的新核芯高階半導體封測廠進場青島西海岸新區揭幕儀式。

此次青島高階封測設備的投入,更是強化鴻海封測端的能力。從數據資料顯示,青島新核芯科技資本額約人民幣5.08億元,主要股東為青島融資科技服務公司,持股比例約48.85%;鴻海旗下富泰華工業持股比例約11.81%、相關企業虹晶科技持股比例約15.75%。

新核芯封測廠此次進駐青島西海岸新區,對中國半導體產業又意味著甚麼呢?此次新核芯高階半導體封測廠所採用的曝光機設備,是採用上中國曝光機龍頭上海微電子(SMEE)28奈米曝光機,從中國的角度來看,被視為降低國外市場依賴的重要里程碑。

SMEE深耕半導體曝光機技術已有20年之久,被視為中國曝光機龍頭老大。

SMEE在中國深耕20餘年,旗下曝光機主要應用於先進封裝領域,包括覆晶(Flip Chip)、扇入型晶圓級封裝(Fan-In WLP)、扇出型晶圓級封裝(Fan Out WLP)和2.5D/3D等先進封裝形式,可滿足凸塊製程(Bumping)、線路重布製程(RDL)和矽穿孔(TSV)等製程的晶圓級曝光工藝需求。

降低對國外市場依賴,中國首台封裝曝光機入駐青島

曝光機設備有將近九成以上掌握在三家大廠手中,其中艾司摩爾(ASML)占比最大,而日本的Canon和 Nikon被視為最有機會反超ASML的廠商。

目前曝光機產業由ASML一家獨大,而日本Canon、Nikon正積極研發相關技術,期能反轉市場局面。
圖/ 簡永昌攝影

隨著晶片製程不斷演進,設計挑戰也與日倍增,想當然爾,幫助讓晶片製造可以順利成形的曝光機設備製造,難度自然不在話下,特別是EUV曝光機,售價以億美元起跳,且年生產量僅有30~40台左右。

以此為前提,各大廠商取得曝光機挑戰本身就大,後續又加上在中美貿易科技戰、疫情與半導體在地化種種因素的驅動下,讓原本不易取得先進製程設備的中國,想要獲取曝光機更是難上加難。

綜合上述因素,促使中國積極耕耘投入曝光機技術。根據中國媒體報導,此次富士康購入的28奈米曝光機設備來自於SMEE,雖然是較為成熟的製程,但這些晶片用在家電上還是沒問題,這無疑是件好事,而此事件也可看做中國跨出對國外設備依賴的一大步。

責任編輯:錢玉紘

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