《數位時代》此次採訪8家半導體設備、材料、廠務業者，多為近3年內資本市場的新面孔，堪稱是「Chip Taiwan」台灣隊，為台積電提供最即時的強力支援。
在半導體產業中，涵蓋材料分析（MA）、故障分析（FA）、可靠度分析（RA）的「檢測分析」，對多數人而言可能較為陌生。隨著晶片製程微縮從奈米進展到更小的埃米（奈米的10分之1），研發過程需要掌握不同的新材料，與更趨複雜的結構，使檢測分析的難度及需求大幅提升，也帶動檢測服務產業發展。
「我們扮演的是『客戶的眼睛』！」汎銓科技董事長柳紀綸以蓋大樓來類比，檢測分析公司所做的，就是去看水泥磅數對不對、柱子是否夠粗，好讓大樓蓋得屹立不搖。
成立於2005年、在2022年上市的汎銓，是「檢測三雄」中最晚進入市場者、營收規模也相對較小，卻在技術門檻及毛利較高的「材料分析」領域開創出一片天，國內市占率過半、2奈米市占並超過6成，更名列首波加入SEMI（國際半導體產業協會）籌組的矽光子產業聯盟業者。汎銓是如何後發先至，並在新興技術起步時搶占先機？
曾被客戶猛追敲碗，20年技術大滿貫
2025年7月，汎銓將滿20歲，回顧一路走來，柳紀綸笑稱，是一直被客戶推著向前。他回憶，從創業的第1年起，汎銓就跟著最大客戶（台積電）從40幾奈米做起，但坦言當時可說是被「逼著走」，技術還未能滿足客戶要求，不時收到客訴。直到約10年前，要跨入EUV（極紫外光）曝光設備的時代，情況有了轉機，「我們已經超前在客戶前面等著他了！」
柳紀綸解釋，半導體先進製程的工序約2,000多道，以奈米尺度層層堆疊裸晶，每一層都要確定堆疊的樣貌是否符合期望，但肉眼自然無法看到僅頭髮數萬分之一的大小。因此，材料分析業者便依客戶指定的位置，以「離子束」、「電子束」轟擊樣品進行切割及觀察。
然而，EUV光阻性質鬆軟，在轟擊過程容易導致變形甚至坍塌。對此，汎銓開發出獨有的「低溫原子層鍍膜」（LT-ALD）技術專利，得以形成保護膜避免分析時樣品損傷，真實呈現原貌，成為了汎銓後續於材料分析領先的關鍵。
汎銓的客戶包括晶圓製造廠、設備及材料廠等，柳紀綸舉例，汎銓自從幾年前即投身參與艾司摩爾（ASML）最新一代High-NA EUV光阻的研發，其中合作超過3年的EUV光阻劑大廠Inpria，並於2024年在美國舉行的國際光電論壇（SPIE）報告中，秀出汎銓提供的材料分析結果。
「從5、6年前的第1代光阻，到現在的第2代光阻，我們算是打下一個戰功，客戶幾乎指定這個光阻的分析都到我們家來做，出來的資料是可信度最高的！」 柳紀綸信心滿滿。
產能衝衝衝！擴點美、日備戰2錢潮
在既有市場之外，汎銓對近年快速崛起的最新技術應用，也多有布局。首先是AI晶片，柳紀綸分享，汎銓已在國內設立「Al晶片大廠」專區，提供針對AI晶片的檢測與分析服務，已取得穩定的長期合作訂單。他說明，所謂專區，便是讓客戶於汎銓實驗室內設置自家機台設備，由汎銓提供最即時且高保密性的檢測服務。
針對外界近來甚為關注的矽光子領域，柳紀綸指出，汎銓可說是矽光子產業聯盟成員中，最早有矽光子相關營收的業者之一，並且已成為晶圓代工大廠矽光子研發的核心合作夥伴。目前掌握「矽光品質與衰減量測」、「矽光斷路與漏光點定位偵測」、「自動矽光量測方案及失效分析」等專利技術，具有明確的技術壁壘。
而對於埃米世代製程演進，汎銓自2024年11月啟動高階檢測廠房建設，將能滿足未來10年的材料分析需求，規畫於2025年完成興建，進駐高階分析設備開始營運。此外，汎銓也隨客戶腳步赴海外設點。柳紀綸表示，在2019年設立的南京實驗室之外，現階段分別在日本東京附近的川崎、美國矽谷設立實驗室，預計自2025年上半年陸續啟用、下半年開始貢獻營收。
儘管產能持續滿載，但大舉海內外擴廠、添置設備增加的資本支出，讓汎銓2024年的獲利較過往遜色。不過柳紀綸樂觀看待，2024年算是打底期，預期2025年AI需求持續暢旺、2026年則是矽光子元年。
汎銓科技
董事長：柳紀綸
成立：2005年
上市：2022年8月
產品服務：半導體材料分析、故障分析檢測服務
產業地位：半導體材料分析國內市占過半
營收：2024年營收新台幣19.67億元
責任編輯：謝宗穎
