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euv
EUV（極紫外線，Extreme Ultraviolet簡稱）微影，是使用通稱極紫外線之極短波（13.5 nm）光線的微影技術，能夠加工至既有雷射光微影技術不易達到之20奈米（nm）以下精密尺寸。在半導體製程上，可以減少晶片生產步驟及光罩層數，達到降低成本的好處，因此被視為推進先進製程的關鍵之一。
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EUV（極紫外線，Extreme Ultraviolet簡稱）微影，是使用通稱極紫外線之極短波（13.5 nm）光線的微影技術，能夠加工至既有雷射光微影技術不易達到之20奈米（nm）以下精密尺寸。在半導體製程上，可以減少晶片生產步驟及光罩層數，達到降低成本的好處，因此被視為推進先進製程的關鍵之一。
